Drying Module Process for Water
Waste Sludge and Sewage Sludge

INTRODUCTION

본 설비는 Water Treatment Plant 나 Waste Water Treatment Plant 등 에서 발생되는 Sludge를 건조하여 감량화 하는 설비입니다.
세계적인 환경 규제 등으로 의해 슬러지의 처리방법이 제한적이고, 점차 금지됨에 따라 슬러지의 효율적이고 친환경적인 처리방법이 필요하게 되었습니다.
하지만 현존하는 처리기술들과 설비들은 대형화가 어렵고, 비효율적인 에너지 사용, 높은 처리비용 등의 문제점이 있습니다.
이에 SAC는 S.D.M Process를 개발하여, 기존 설비들의 문제점을 보완, 낮은 처리비용과 효율적인 에너지 사용량을 실현하였습니다.
각종 발생지에서 생성되는 슬러지의 양에 맞춰 적은 양부터 대단위 설비까지 단위 별로 구성이 가능한 Moduler System을 적용하여, 고객의 Needs에 맞게 엔지니어링 서비스를 제공합니다.

Drying Module Process
  • 처리물 투입 조건 : 함수율 최대 80%
  • 최종 처리 목표 : 함수율 3 - 10%
Specification
  • 연속 조업 프로세스
  • 전자동 시스템 구성
  • 폐열 회수를 통한 에너지 재사용
  • 최적의 열 에너지 사용
  • 고효율 고압 다단 Blower 사용
  • 다양한 에너지원 사용 (전기히터, 가스버너 등)
Advantages
  • 뛰어난 에너지 절약 효과
    (절감율 35% 이상)
  • 처리 공정의 편의성 향상
  • 발생량에 따른 자유로운 추가 구성 가능
    (모듈화 시스템)
Business
Water Sludge Drying Module Process

정수장에서 발생되는 슬러지를 감량화는 물론, 이를 재활용(세라믹 소재, 기능성 타일 등)의 원료로 재가공까지의 전체 프로세스를
엔지니어링 합니다.

  • 처리량 : 5ton/day - 100ton/day
  • 처리물 투입 조건 : 함수율 약 75%
  • 최종 처리 목표 : 함수율 약 3% - 30%
  • 처리 온도 조건 : 100℃이하 건조, 400℃ - 900℃(조건에 따른 선택 건조)
Sewage Sludge Drying Module Process

하,폐수 처리시설이나, 각 사업장별로 발생되는 슬러지들의 감량화 프로세스를 엔지니어링 합니다.

  • 처리량 : 5ton/day - 500ton/day(처리 조건에 따른 설계 가능)
  • 처리물 투입 조건 : 함수율 약 75%
  • 최종 처리 목표 : 함수율 약 10% 이하
  • 처리 온도 조건 : 100℃이하 1차 건조, 300℃ - 400℃(조건에 따른 선택 건조)
Ore Drying Process

광석의 수분함량을 줄여 고품위의 광석을 생산하기 위한 프로세스를 제공합니다.

  • 처리량 : 2,000 ton/day(처리 조건에 따른 설계 가능)
  • 처리물 투입 조건 : 함수율 30% - 40%
  • 최종 처리 목표 : 함수율 1%이하
  • 처리 온도 조건 : 100℃이하 1차 건조, 850℃ - 900℃(조건에 따른 선택 건조)

Burner (Oxy-fuel / Regenerative) /
Gas Generator

Oxy-fuel Burner
Specification
  • 산화제로 Air 대신 순산소 사용
Advantages
  • CO2 감소
  • 약 40% 에너지 저감
  • 약 30% 생산성 향상
  • 열전도 향상
Regenerative Burner
Specification
  • 축열부 세라믹 볼 구성
  • 연소 예열 온도 약 1,100℃
Advantages
  • 일반 버너와 비교해 약 20% 에너지 저감
  • Nox 배출 70ppm 이하
  • 친환경 제품
Gas Generator
Application
  • 침탄, 질화, 진공, Brazing, Nickellizing
  • Metalizing, 무산화 열처리 및 광휘 열처리 사용
Items
  • AX-G/G
    Specification : 10 ~ 150Nm³ /hrr
  • RX-G/G
    Specification : 30 ~ 160Nm³ /hr
  • DX-G/G
    Specification : 30 ~ 200Nm³ /hr
  • N2-G/G
    Specification : 50 ~ 300Nm³ /hr
Layout (N2-G/G)
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